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返回产品中心> 公司介绍: NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量*的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上大的帮助。 产品介绍: 用于X射线分析的分辨率评估图的事实上的标准 优点 恩梯梯技术公司的X射线分辨率评估图被应用于X射线显微镜、X射线微光束分析和X射线成像等需要超高分辨率的X射线分析。此已成为事实上标准的X射线图被广泛应用于世界上许多地方。 特点: 有三种X射线图可应用于各种方面:标准型、高分辨率和高对比度型以及超高分辨率型。可为用户的系统定制图案布局和基板尺寸。 有三种X射线图可应用于各种方面:标准型、高分辨率和高对比度型以及超高分辨率型。可为用户的系统定制图案布局和基板尺寸。 XRESO-20是具有20纳米小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号近被应用于超高分辨率X射线成像系统。 ①放射形图案 ③④孔图案 XRESO-20是具有20纳米小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号近被应用于超高分辨率X射线成像系统。 XRESO-50HC提供成本合理的50纳米高分辨率。其已被应用于X射线微光束辐射、X射线显微镜和X射线相干成像等各种用途。
恩梯梯技术公司的X射线图的大特点是高耐X射线辐射性、超清晰图案和低边缘粗糙度。本公司基于Ta吸收体图的SiC膜极其精确,能为用户的X射线分析系统评估提供清晰的图像。
您不尝试一下这事实上标准的性能吗?规格
项目 标准型
XRESO-100高分辨率型
带较厚Ta
吸收体
XRESO-50HC新!!
超高分辨率
XRESO-20基板 材料、尺寸 Si 10平方毫米 厚度 1毫米 1毫米 0.625毫米 膜 材料、
厚度Ru 20纳米
SiN 2微米Ru 20纳米
SiC 200纳米
SiN 50纳米Ru 20纳米
SiC 200纳米
SiN 50纳米区域 1平方毫米 1平方毫米 1平方毫米 对齐 基板中间 基板中间 基板中间 图案 吸收体、
厚度Ta 1微米 Ta 500纳米 Ta 100纳米 小图案
尺寸100纳米 50纳米 20纳米
放射形图案图案区域 250微米×350微米 300平方微米 300平方微米 恩梯梯技术公司的已成为事实上标准的X射线分辨率评估图在世界上被用于企业、大学和研究所。
超高分辨率型 XRESO-20
图的SEM图像 图案布局 100纳米孔 50纳米孔 20纳米图案 20纳米放射形图案 超高分辨率型 XRESO-20
图案布局 带较厚吸收体的高分辨率型 XRESO-50HC
图的SEM图像 图案布局 放射形图案
相应于图案布局的点(1)50纳米 L&S
相应于图案布局的点(2)
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