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XRESO系列 X射线分辨率测试卡

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公司介绍:

NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量*的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上大的帮助。

产品介绍:

用于X射线分析的分辨率评估图的事实上的标准

优点

恩梯梯技术公司的X射线分辨率评估图被应用于X射线显微镜、X射线微光束分析和X射线成像等需要超高分辨率的X射线分析。此已成为事实上标准的X射线图被广泛应用于世界上许多地方。
恩梯梯技术公司的X射线图的大特点是高耐X射线辐射性、超清晰图案和低边缘粗糙度。本公司基于Ta吸收体图的SiC膜极其精确,能为用户的X射线分析系统评估提供清晰的图像。
您不尝试一下这事实上标准的性能吗?


特点:

有三种X射线图可应用于各种方面:标准型、高分辨率和高对比度型以及超高分辨率型。可为用户的系统定制图案布局和基板尺寸。


有三种X射线图可应用于各种方面:标准型、高分辨率和高对比度型以及超高分辨率型。可为用户的系统定制图案布局和基板尺寸。

规格

项目标准型
XRESO-100
高分辨率型
带较厚Ta
吸收体
XRESO-50HC
新!!
超高分辨率
XRESO-20
基板材料、尺寸Si 10平方毫米
厚度1毫米1毫米0.625毫米
材料、
厚度
Ru 20纳米
SiN 2微米
Ru 20纳米
SiC 200纳米
SiN 50纳米
Ru 20纳米
SiC 200纳米
SiN 50纳米
区域1平方毫米1平方毫米1平方毫米
对齐基板中间基板中间基板中间
图案吸收体、
厚度
Ta 1微米Ta 500纳米Ta 100纳米
小图案
尺寸
100纳米50纳米20纳米
放射形图案
图案区域250微米×350微米300平方微米300平方微米



X-ray_chart_01
X射线图(高分辨率图)的略图


恩梯梯技术公司的已成为事实上标准的X射线分辨率评估图在世界上被用于企业、大学和研究所。

  • 超高分辨率型 XRESO-20

XRESO-20是具有20纳米小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号近被应用于超高分辨率X射线成像系统。

图的SEM图像图案布局
100纳米孔

北京众星联恒科技有限公司

①放射形图案

③④孔图案

⑤⑥⑦⑧L&S图案

北京众星联恒科技有限公司

50纳米孔
北京众星联恒科技有限公司
20纳米图案20纳米放射形图案
北京众星联恒科技有限公司北京众星联恒科技有限公司


  • 超高分辨率型 XRESO-20

XRESO-20是具有20纳米小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号近被应用于超高分辨率X射线成像系统。


图案布局
X-ray_chart_1.jpg


  • 带较厚吸收体的高分辨率型 XRESO-50HC

XRESO-50HC提供成本合理的50纳米高分辨率。其已被应用于X射线微光束辐射、X射线显微镜和X射线相干成像等各种用途。

图的SEM图像图案布局
放射形图案
相应于图案布局的点(1)
北京众星联恒科技有限公司

北京众星联恒科技有限公司

50纳米 L&S
相应于图案布局的点(2)
北京众星联恒科技有限公司





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