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FZP-S38/84等 X射线菲涅耳波带片

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公司介绍:

NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量*的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上大的帮助。


产品介绍:

世界上只有恩梯梯技术公司生产基于SiC膜的 FZP


优点:

恩梯梯技术公司的由SiC膜和Ta吸收体图案组成的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性、高分辨率和高对比度。
只有恩梯梯技术公司提供基于SiC膜的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性。恩梯梯技术公司的FZP由干法蚀刻的Ta组成。吸收体图案清晰,S/N比高,成像缺陷少, 能理想地应用于X射线显微镜、X射线微光束辐射和X射线成像。
另外,还提供用于软X射线和极紫外(EUV、XUV)领域的Ta图案/SiN膜型FZP和Au板图案/SiN 膜型FZP。并提供台阶式(基诺全息照片)FZP。

特点:

  • 能用于X射线显微镜、EUV显微镜、X射线微光束辐射和同步加速器辐射光束监视等各种X射线应用。

  • 出色的高耐X射线辐射性

  • 小区域宽度达25纳米

  • 可定制FZP

菲涅耳波带板(FZP)的X射线吸收体图案

可按要求定制设计FZP,满足用户的特殊X射线能量、光学设置和聚焦、图像性能。如果本公司的标准产品商品目录中没有所需的产品,请。

xray_fzp_001
图案示意图
(φ2.5mm)(光学显微镜)
xray_fzp_002
以对角观察的SEM图
(SEM)

菲涅耳波带板(FZP)的结构


xray_fzp_003
二进制型
xray_fzp_004

台阶(基诺全息照片)式




小区域宽度25纳米
大直径5毫米
膜材料

SiN, SiC

膜厚度0.2至2微米
吸收体材料Ta
吸收体厚度0.1至2微米
Si基板形状10平方毫米
Si基板厚度1毫米

※我们可与用户商讨不同需求。


带规格的标准产品列表

型号宽高

材料

厚度
(微米)
ΔRn
(纳米)
D
(微米)
NTm
(纳米)
FZP-S38/844.2SiN0.153884550160
FZP-S50/805SiN0.25080400250
FZP-S40/1555SiN240155970200
FZP-S50/3308SiN1503301,650400
FZP-S86/4168SiN2864161,200700
FZP-100/1558SiN2100155388800
FZP-173/2085.8SiN21732083001,000
FZP-200/2068SiN22002062551,600
FZP-C234/25000.6SiC0.22342,5002,670150

※规格可能会变更,恕不预先通告。

Rn:外区域宽度
D:直径
N:全区域
Tm:Ta厚度

标准交付周期:12个星期


产品示例

  • 超精密图案菲涅耳波带板(FZP

菲涅耳波带板(FZP)直径:250微米,Ta厚度:125纳米,外区域宽度:25纳米,膜:SiC 2.0微米

xray_fzp_005

xray_fzp_006


  • 高纵横比(较厚Ta吸收体)菲涅耳波带板(FZP)

菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:2.5微米,外区域宽度:250纳米,膜:SiN 2.0微米

xray_fzp_007

xray_fzp_007


  • 台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)

菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:4.0微米,外区域宽度:400纳米,膜:SiC 2.0微米

xray_fzp_009

北京众星联恒科技有限公司


菲涅耳波带板(FZP)中间区域的SEM 图:台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)、Ta图案




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