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- 公司名称 北京众星联恒科技有限公司
- 品牌
- 型号 FZP-S38/84等
- 所在地
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2020/12/30 16:13:54
- 访问次数 182
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公司介绍: NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量*的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上大的帮助。 产品介绍: 世界上只有恩梯梯技术公司生产基于SiC膜的 FZP 优点: 恩梯梯技术公司的由SiC膜和Ta吸收体图案组成的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性、高分辨率和高对比度。 能用于X射线显微镜、EUV显微镜、X射线微光束辐射和同步加速器辐射光束监视等各种X射线应用。 出色的高耐X射线辐射性 小区域宽度达25纳米 可定制FZP 可按要求定制设计FZP,满足用户的特殊X射线能量、光学设置和聚焦、图像性能。如果本公司的标准产品商品目录中没有所需的产品,请。 台阶(基诺全息照片)式 SiN, SiC ※我们可与用户商讨不同需求。 ※规格可能会变更,恕不预先通告。 菲涅耳波带板(FZP)中间区域的SEM 图:台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)、Ta图案
只有恩梯梯技术公司提供基于SiC膜的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性。恩梯梯技术公司的FZP由干法蚀刻的Ta组成。吸收体图案清晰,S/N比高,成像缺陷少, 能理想地应用于X射线显微镜、X射线微光束辐射和X射线成像。
另外,还提供用于软X射线和极紫外(EUV、XUV)领域的Ta图案/SiN膜型FZP和Au板图案/SiN 膜型FZP。并提供台阶式(基诺全息照片)FZP。特点:
菲涅耳波带板(FZP)的X射线吸收体图案
(φ2.5mm)(光学显微镜)
(SEM)菲涅耳波带板(FZP)的结构
小区域宽度 25纳米 大直径 5毫米 膜材料 膜厚度 0.2至2微米 吸收体材料 Ta 吸收体厚度 0.1至2微米 Si基板形状 10平方毫米 Si基板厚度 1毫米 带规格的标准产品列表
型号 宽高
比膜
材料膜
厚度
(微米)ΔRn
(纳米)D
(微米)N Tm
(纳米)FZP-S38/84 4.2 SiN 0.15 38 84 550 160 FZP-S50/80 5 SiN 0.2 50 80 400 250 FZP-S40/155 5 SiN 2 40 155 970 200 FZP-S50/330 8 SiN 1 50 330 1,650 400 FZP-S86/416 8 SiN 2 86 416 1,200 700 FZP-100/155 8 SiN 2 100 155 388 800 FZP-173/208 5.8 SiN 2 173 208 300 1,000 FZP-200/206 8 SiN 2 200 206 255 1,600 FZP-C234/2500 0.6 SiC 0.2 234 2,500 2,670 150
Rn:外区域宽度
D:直径
N:全区域
Tm:Ta厚度
标准交付周期:12个星期产品示例
超精密图案菲涅耳波带板(FZP)
菲涅耳波带板(FZP)直径:250微米,Ta厚度:125纳米,外区域宽度:25纳米,膜:SiC 2.0微米 高纵横比(较厚Ta吸收体)菲涅耳波带板(FZP)
菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:2.5微米,外区域宽度:250纳米,膜:SiN 2.0微米 台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)
菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:4.0微米,外区域宽度:400纳米,膜:SiC 2.0微米
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