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返回产品中心> 公司介绍: 德国Microworks 公司成立于 2007年, 是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)微技术研究所 (IMT) 衍生的子公司。通过使用X 射线和激光LIGA技术,Microworks为客户提供高精度微结构的产品。在微纳米技术领域,Microworks代表着高精度。在一个晶片内或者从一个晶片到另一个晶片,其高纵横比和精度可以远低于1µm。其产品涵盖相衬成像光栅、微齿轮、双曲型电极、精密筛、近红外滤波器(选频滤波器)、微弹簧,RF等。 产品介绍: X射线光栅的制作流程 吸收光栅 (a)准备光栅胶层 (b)掩膜光刻胶层在X射线下曝光 (c)形成精细的光刻胶结构 (d)电镀金形成X射线光栅结构 产品特点: 高纵横比结构 极小周期 大面积X射线 标准结构面积 4英寸基板: 70~90mm的直径 6英寸基板:高达110mm(在某些情况 有限制) 更大尺寸选项 拼接多个光栅面板 在单个制作工艺上扩大结构面积(研发) 弯曲光栅 椎束照射高纵横比光栅,为了避免影像影响,可采用弯曲光栅,可使用特殊的夹具来运输 主要应用: 用于Talbot干涉仪的X射线光栅 微焦源Talbot干涉成像仪 光源:微焦X射线管 E=25keV 加速电压:40KV 电流:120 μA G1:周期4.37 μm(Ni) G2: 周期2.4μm(Au) 在SR装置BL-14C线站的Talbot干涉实验 E=17.8 keV Al 滤片 2.0 mm G1:周期 2.4 μm (Ni) G2:周期 2.4 μm (Au)
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