NanoPVD-S10A-WA型科研级大尺寸磁控溅射系统

Ø产品简介

NanoPVD-S10A-WA是英国MOORFIELD公司一款桌面式高性能科研级大尺寸磁控溅射系统，可配置DC磁控溅射靶与RF磁控溅射靶，用于沉积纳米级的金属及绝缘材料的单层或者多层功能膜与复合膜，该系统被上许多学术团队采用，是科研用户磁控溅射的理想选择。

Ø产品特性

• 紧凑型桌面结构，模块化设计

• 可选择DC与RF两种磁控溅射源，用于金属薄膜及绝缘材料，如氧化物与氮化物溅射

• 大可支持8英寸样品

• 可安装2个2”磁控溅射靶，溅射靶角度连续可调，可独立/依次/共同溅射

• 可加3路反应气体，Ar，N2，O2有MFC控制

• 压力全自动控制，真空度低至 <5×10-7 mbar

• 配置Quartz crystal sensor用于薄膜厚度监测

• 操作简单：通过触屏或计算机实现全自动操作

• 自定义并可存储多个recipe

• 操作安全：自带各种软硬件互锁功能

• 可选加热样品台，温度500℃，精度+/-1℃

• 可选旋转样品台

• 售后维护简单

• 兼容超净间

Ø应用

该系统用于半导体材料、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池实验研究。广泛应用于高校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。