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MRC603真空镀膜机
MRC603采用*的立式结构设计及特殊结构的阴极,可实现高溅射,膜厚均匀性和高靶材有效使用率,从研发应用到大批量生产,可沉积介质膜、金属膜等,主要用于集成电路制造、平板显示器、光刻掩膜版、通讯网络、化合物半导体器件、射频功率器件和光电子器件等。
电镜样品制备LeicaEMA
电竞样品制备LeicaEMA
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SwingDip®浸渍提拉镀
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