产品简介：SE-L光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪，集众多科技技术，采用行业前沿创新技术，配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。
产品型号 | SE-L光谱椭偏仪 | ||
主要特点 | 1、高精度自动测量光学椭偏测量解决方案 2、全自动变角、调焦等控制平台，一键快速测量 3、软件交互式界面配合辅助向导式设计，易上手、操作便捷 4、丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力 5、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm) 6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集 7、全自动椭偏测量技术，基于行业电机控制技术，全自动调整测量角度，高精度控制样件台，实现样件快速自动对准找焦 8、颐光技术确保在宽光谱范围内，提供优质稳定的各波段光谱 9、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料 | ||
技术参数 | 1、自动化程度：自动变角 2、应用定位：自动型 3、基本功能：Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱 4、分析光谱：380-1000nm(可扩至193-2500nm) 5、单次测量时间：0.5-5s 6、重复性测量精度：0.01nm 7、光斑大小：大光斑2-3mm,微光斑200um 8、入射角调节方式：自动变角 9、入射角范围：45-90° 10、找焦方式：自动找焦 11、Mapping行程：支持100x100mm(可选配) 12、支持样件尺寸：大至200mm | ||
可选配置 | 波段选择 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度选择 自动:45-90° 其他选择 Mapping选择:100×100mm(供参考,按需定制) 温控台:室温一600℃(供参考,按需定制) | ||
可选配件 | 1 | 温控台 |
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2 | Mapping扩展模块 |
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3 | 真空泵 |
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4 | 透射吸附组件 |
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