法国KLOE公司在光刻方面有着丰富的经验，其研发的UV- KUB系列光刻机是一种基于UV LED的曝光机系统，结构紧凑，可以直接放置在实验台上，能够处理大直径4英寸的晶圆，兼容硬接触（接触式）或者软接触（接近式）工艺，可自动调整掩膜高度以适应不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要预热，也不需要单独的冷却单元。
KLOE 微流控芯片光刻机/曝光机 UV-KUB系列
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简介
法国KLOE公司在光刻方面有着丰富的经验，其研发的UV- KUB系列光刻机是一种基于UV LED的曝光机系统，结构紧凑，可以直接放置在实验台上，能够处理大直径4英寸的晶圆，兼容硬接触（接触式）或者软接触（接近式）工艺，可自动调整掩膜高度以适应不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要预热，也不需要单独的冷却单元。另外，UV-KUB系列*的设计，保证了光源的准直性和均匀性，其小分辨率可达2μm，大发散角小于2°
本系统适用于市面上常用的光刻胶，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
规格参数
功能图解
UV-KUB 2型光刻机，是市场上一款采用UV-LED光源系统的光刻机，其配备了基于LED光源的光学头，使用寿命大大提高，结构小巧，性价比高，非常适合实验室应用。
UV-KUB 3是一款带对位功能的UV-LED曝光机，光源为365nm，其触摸屏和CCD相机代替了传统的显微镜及双筒目镜，控制器提供了图像捕获、测量以及对齐坐标的记录等功能，可以实现预对准，这样，用户再通过操作手柄便能方便的进行终的对准操作。
UV-KUB 2
UV-KUB 3
应用系统
微流控芯片
MEMS器件
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