CMSD2000 水性鳞片石墨研磨分散机

水性鳞片石墨研磨分散机能够实现自动控制，且操作简单方便，机器运行很稳定。机器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到*的清洗。

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依肯研磨分散机对鳞片石墨在水介质中分散性能的影响！

鳞片石墨在水介质中的沉降率和分散率作为评价指标，鳞片石墨的自润滑性，抗氧化性，稳定性好以及以及比表面积和表面能较大，有利于促进金属离子的沉积。

鳞片石墨结晶完整，片薄且韧性好，物化性能优异，具有良好的热传导性、 导电性、抗热震性，耐腐蚀性等。

IKN研磨分散机能够实现自动控制，且操作简单方便，机器运行很稳定。机器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到*的清洗。

大家都知道石墨烯粉料是比较轻，与液体接触就会浮在表面，难以搅拌混合，而且还易团聚结块，不易分散开。针对上述难点呀，上海依肯的研磨分散均质机就能够很好的解决。IKN研磨分散均质机是针对易团聚且分散效果不好的物料研发的，其设计上是采用胶体磨与分散机结合设计而成，也是胶体磨的升级版本，上面一层采用锥体磨设计，使得物料能够在定转子间距小的间隙（间隙可调）间进行研磨，研磨后的物料瞬间进入第二层分散均质层进行剪切分散均质。

CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力，可以处理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。

研磨分散机的特点：

1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

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2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

设备其它参数:

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

IKN研磨分散机的应用领域：

1. 精细化工、颜料、染料、涂料、油漆、塑料、树脂、热熔胶、阻燃剂、胶黏剂、整理剂、表面活性剂、均染剂防粘剂、消泡剂、光亮剂、橡胶助剂、塑料辅剂、染料助剂、絮凝剂、混凝剂、表面活性剂溶剂、硅油乳化、树脂乳化、炭墨分散
2. 石油化工、润滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性沥青、乳化沥青、催化剂、蜡乳化
3. 农药化肥 、化肥、农药乳化、农药助剂、农药中间体、药乳油、杀虫剂、除草剂、种衣剂、杀菌剂、植物激素、尿素、复合肥、乳油湿性粉剂
4. 生物医药、细胞浆化、血清疫苗、蛋白质分散剂、药乳膏、抗生素、糖衣
5. 日用化工、护肤霜、护肤膏、洗涤剂、防腐剂、美发用品、牙膏、日用香精
6. 食品工业、食品添加剂、香精香料、果汁、果酱、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
7. 涂料油墨、内外墙涂料、乳胶漆、纳米涂料、建筑胶、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助剂釉、膨润土

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