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CMSD2000 纳米氧化锆研磨分散机

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纳米氧化锆研磨分散机,高速研磨分散机立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

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纳米氧化锆研磨分散机,高速研磨分散机,高剪切研磨分散机,抗菌除臭氧化锆塑料研磨分散机,纳米氧化锌研磨分散机

纳米氧化锆具有抗热震性强、耐高温、化学稳定性好、材料复合性突出等特点。将纳米氧化锆与其他材料(Al?O3 、SiO? )复合,可以*地提高材料的性能参数,提高其断裂韧性、抗弯强度等。因此,纳米二氧化锆不仅应用于结构陶瓷和功能陶瓷领域,也应用于提高金属材料的表面特性(热传导性、抗热震性、抗高温氧化性等)。利用纳米二氧化锆掺杂不同元素的导电特性,在高性能固体电池中用于电极制造。

纳米氧化锆粉体烧结成的陶瓷由于其相变增韧性的良好性能已成为主要的结构陶瓷之一;在纳米复合材料研究中,将纳米二氧化锆作为弥散相对基体进行增强韧化,已取得显著的效果;稳定纳米氧化锆作为一种理想的电解质已被广泛地应用于固体氧化物染料电池中。

纳米氧化锆粉体在国防、电子、高温结构和功能陶瓷,尤其是在表面涂层等高科技领域有重要应用价值。

1, 纳米氧化锆可以用在高强度、高韧性耐磨制品:磨机内衬、拉丝模、热挤压模、喷嘴、阀门、滚珠、泵零件、多种滑动部件等。

2,功能陶瓷,结构陶瓷:电子陶瓷、生物陶瓷

3. 压电元件.氧敏电阻.大容量电容器;

4. 人造宝石,研磨材料. 功能涂层材料:加入涂料中有防腐、抗菌作用,提高耐磨、耐火效果。

5. 纳米氧化锆还可以耐火材料:电子陶瓷烧支承垫板,熔化玻璃、冶金金属用耐火材料;

在高技术领域的应用日益扩大。

6,经过硅烷修饰的纳米ZrO?颗粒,在其添加量为3.0%时,可以显著地提高纳米ZrO?/PMMA复合材料的挠曲强度。

上海依肯研发的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。在胶体磨的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。

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CMD2000研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

CMD2000研磨分散机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

 

研磨分散机的特点:

更稳定 采用优化设计理念,将先x的技术与创x的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证.

新结构 通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,超高线速度的吸料式叶轮提供*切割力,纤维湿法研磨破碎可达400目.

更可靠 采用整体式机械密封,zui大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题,安装与更换方便快捷.

新技术 采用国x先x的受控切割技术,将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内,满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.

 

CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

研磨分散机的特点:

1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

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2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

设备核心参数:

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

 

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

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