DE300 美国实验室电子束蒸发真空镀膜沉积设备前开门旋转基片真空镀膜机

DE300电子束蒸发系统
LOAD LOCK预真空进样室(可选)
前开门蒸发腔体
冷凝泵和干泵
多坩埚位旋转电子枪
zui大6”基片
基片旋转
基片偏压(可选)
离子源清洗基片(可选)
基片加热1000度(可选)
晶振沉积速率及膜厚控制
系统手动或自动控制
良好的薄膜均匀性和重复性
可沉积金属、半导体和绝缘材料
可沉积多层膜
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DE TECHNOLOG

DE300电子束蒸发系统

LOAD LOCK预真空进样室（可选） 

· 前开门蒸发腔体 

· 冷凝泵和干泵 

· 多坩埚位旋转电子枪 

· zui大6”基片 

· 基片旋转 

· 基片偏压（可选） 

· 离子源清洗基片（可选） 

· 基片加热1000度（可选） 

· 晶振沉积速率及膜厚控制 

· 系统手动或自动控制 

· 良好的薄膜均匀性和重复性 

· 可沉积金属、半导体和绝缘材料 

· 可沉积多层膜

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DE TECHNOLOGY LIMITED

德仪科技有限公司

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.: ,67832717

: de@deProducts.com

德仪科技有限公司专业进口美国磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发和脉冲激光真空薄膜沉积设备，以及磁控溅射源/电源、电子束蒸发源、溅射靶材和蒸发材料、阀门、真空计和流量计、真空密封穿导件等各种真空部件。十几年来，凭着的品质，*的技术和周到的技术服务，德仪公司的产品为中国的高校、科研院所及企业的薄膜沉积工作提供了有力的支持！ 

      我们期待为您提供您使用的真空薄膜沉积设备和部件！ 

主要产品：

                 Sputter 磁控溅射薄膜沉积系统 
                  E-Beam 电子束蒸发薄膜沉积系统 
                  Thermal 热阻蒸发薄膜沉积系统 
                  PLD 脉冲激光镀膜系统 
                  Sputter Sources 磁控溅射阴极 
                  DC/RF Power Supply 直流/射频电源 
                  E-Beam Sources 电子束蒸发源 
                  Thermal EVP Sources 热蒸发源 
                  Deposition Materials 溅射靶材和蒸发镀膜材料 
                  Sample Manipulator 样品台 
                  Feedthroughs 电子穿导器件 
                  Vacuum Valves 真空阀门 
                  Vacuum Components 真空配件 
  
                  的品质、优质的服务是我们的宗旨！