ELS-F125/F100/HS50 高精度电子束曝光系统

ELS-F125是Elionix推出的世界上加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)

ELS-F125具有以下优点：

l 超高书写精度

- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV

- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应小化 @ 125 kV

l 高通量、均匀性好

- 超大视野书写:500um视场下10 nm线宽

- 高束流下电子束直径依然很小，高通量而不影响分辨率，2 nm 电子束直径@ 1 nA

l 界面用户友好

基于Windows系统的CAD和SEM界面:

-简单易用的图案设计功能

-易于控制的电子束条件

二、主要功能

l 主要应用

纳米器件的微结构

集成光学器件，如光栅，光子晶体等

NEMS结构，复杂精细结构

光刻掩模板，压印模板

l 技术能力

三、应用