NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR 膜厚测量仪

NanoCalc-2000是一种用户可配置的膜厚测量系统，它利用分光光谱反射仪来精确地测量光学或非光学薄膜厚度，可广泛用于半导体、医疗和工业生产中。

NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚测量仪的原理：

利用白光干涉测量法的原理，NanoCalc-2000用一个宽光谱的光源来测得不同波长的反射数据，由于反射率n和消光系数k随膜厚的不同而变化，NanoCalc-2000根据这一特性来进行曲线拟合从而求得膜厚。在NanoCalc-2000中，不同类型材料的相应参数通过不同的模型来描述，从而保证了不同类型材料膜厚测量的准确性。

NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚测量仪的特点：

• UV/VIS/NIR高分辨率的配置
• 测量准确度在1nm，精度在0.1nm
• 可测量4层薄膜的任意3层
• 薄膜测量zui小可至10nm，zui大可至400um
• 可测量zui小1nm厚的透明金属层
• 提供用于复杂外形材料测量的试验台及附件
• 对表面缺陷和光滑度不敏感
• 庞大的材质数据库，保证各种材料的精确测量

NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚测量仪的技术参数：