资料类型
pdf资料简介
一、 前言
*在半导体行业起到非常关键的作用, 常常作为硅片清洁剂, 印刷电路板刻蚀剂以及处理金属 杂质。本次实验采用 JH-T7全自动电位滴定仪依据 GB/T 1616-2014 工业*测定,测定某半导体上游 厂家的工业药水中*的含量, 用以验证电位滴定法检测工业药水中的过氧化氢方法是否可行。
二、仪器与试剂
2.1、仪器
JH-T7全自动电位滴定仪, 复合铂电极, 容量瓶, 分析天平等
2.2、试剂
c=0.1mol/L 的 KMnO4 标准滴定液, 硫酸溶液(20%) , 去离子水
三、 实验方法
3.1、实验过程
用减重称量法准确称取 1g 试样(精确至 0.0001g)于滴定杯中,加入 50mL 去离子水,再加入 10mL20% 的硫酸溶液, 放置于滴定台上, 启动事先编辑好的方法, 用高mengsuanjia滴定液进行滴定, 同时做空白实验。
3.2、仪器参数如表所示:
表 1 *测定滴定仪参数设置
滴定类型: | 动态滴定 | 方法名: | 高mengsuanjia滴定* |
滴定管体积: | 10mL | 样品计量单位: | g |
工作电极: | 复合铂电极 | 参比电极: | 无 |
搅拌速度: | 7 | 预搅拌时间: | 5s |
电极平衡时间: | 4s | 电极平衡电位: | 1mv |
滴定速度: | 标准 | 滴定前平衡电位: | 6mv |
每次添加体积: | 0.02mL | 结束体积: | 20mL |
电位突跃量: | 3500 | 相关系数: | 1.701 |
滴定剂名称: | 高mengsuanjia | 理论浓度: | 0.1 |
免责声明
- 凡本网注明“来源:仪器网”的所有作品,均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-化工仪器网合法拥有版权或有权使用的作品,未经本网授权不得转载、摘编或利用其他方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的,应在授权范围内使用,并注明“来源:仪器网”。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。
- 本网转载并注明自其他来源(非仪器网)的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品第一来源,并自负版权等法律责任。
- 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。
移动端




回放
回放



















浙公网安备 33010602002722号