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简介:PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)是一种通用的聚合材料,适用于许多成像和非成像微电子系统。PMMA光刻胶是将PMMA聚合物溶解在诸如苯甲醚之类的安全溶剂中,曝光会导致聚合物链断裂。PMMA作直写式电子束...
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简介:刻胶(resist)概述光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于...
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简介:上海伯东日本进口适合小规模量产使用和实验室研究的离子蚀刻机,一般通氩气Ar,无污染,内部使用美国KRI考夫曼离子源KDC40产生轰击离子;终点检出器采用Pfeiffer残余质谱监测当前气体成分,判...
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简介:伯东公司日本进口小型离子蚀刻机,适用于科研院所,实验室研究,干式制程的微细加工装置,特别适用于磁性材料,金,铂及各种合金的铣削加工.
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简介:伯东公司日本进口小型离子蚀刻机,适用于科研院所,实验室研究,干式制程的微细加工装置,特别适用于磁性材料,金,铂及各种合金的铣削加工.
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简介:伯东公司日本原装设计制造离子蚀刻机IBE.提供微米级刻蚀,均匀性:≤±5%,满足所有材料的刻蚀,即使对磁性材料,黄金Au,铂Pt,合金等金属及复合半导体材料,这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻.可用于反...
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简介:上海伯东日本进口适合大规模量产使用的离子刻蚀机
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简介:上海伯东日本进口适合中等规模量产使用的离子刻蚀机,样品台可选直接冷却/间接冷却
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简介:伯东公司日本进口全自动离子刻蚀机MEL3100,蚀刻速率10(nm/min),均匀性≤±5%,全自动化系统减少人工操作,保证产品高稳定性和高质量.有效减少因人工操作带来的损失!
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简介:产品描述EuroplasmaCD400PLC低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗,功能性改性,处理温度40℃以下.材料:铝尺寸:400x400x400mm容积:64升舱门:装有可视窗口托盘:4...
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