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离子减薄仪

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设备介绍离子减薄仪(PrecisionIonPolishingSystem),为整套TEM样品制备的道工序,经氩离子减薄的样品可在TEM下直接观察,入射角可以从10至-10,制样速度快,能够以最小的耗费制备出高质量的TEM样品;仪器操作方便快捷;配备了低能量离子枪功能,尤其适合对能量敏感性样品的减薄

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设备介绍

离子减薄仪(Precision Ion Polishing System ),为整套TEM样品制备的道工序,经氩离子减薄的样品可在TEM 下直接观察,入射角可以从10°至-10°,制样速度快,能够以最小的耗费制备出高质量的TEM样品;仪器操作方便快捷;配备了低能量离子枪功能,尤其适合对能量敏感性样品的减薄。

仪器型号

美国 GATAN Gatan691

技术参数

  • 光束直径5keV 下350μm
  • 离子电流密度 10mA/cm2
  • 样品尺寸3mm或2.3mm
  • 减薄角度+10° 到 -10°
  • 离子束能量100eV 到6.0 KeV

案例展示

    应用范围

    离子减薄仪(Precision Ion Polishing System ),主要用于陶瓷、半导体、金属和合金等多种材料的透射电子显微镜样品的制备。


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