Excite Pharos 飞秒激光剥蚀系统是市面上很具操作性的飞秒系统，采用结构紧凑、全密闭的工业级激光源，无需二次校准和清洁维护。系统提供多种波长可选，如1028nm、257nm、206nm，或配置多波长切换控制，相对应的能量密度为10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm)，在长期稳定运行情况下剥蚀稳定性RSD能达到0.1%。同时系统配备HelEx II双体积双气路涡流样品池，提供快速冲洗效率和持续的剥蚀环境。
产品特点
美国CETAC的激光剥蚀/激光烧蚀产品线源于之一的Photon Machines团队（缩写PMI），其代产品于1995年问世，该品牌具有丰富的激光剥蚀产品设计、研发、制造及应用经验，产品线涉及213nm固体激光、193nm准分子激光、飞秒激光系统（与ICP-MS联用），及CO2和二极管激光熔融系统（与惰性气体同位素质谱联用），此外多种高性能配件与更加直观的分析软件能够增强并完善系统的功能，足以为元素分析用户提供*的激光剥蚀技术。
Excite Pharos 飞秒激光剥蚀系统是市面上很具操作性的飞秒系统，采用结构紧凑、全密闭的工业级激光源，无需二次校准和清洁维护。系统提供多种波长可选，如1028nm、257nm、206nm，或配置多波长切换控制，相对应的能量密度为10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm)，在长期稳定运行情况下剥蚀稳定性RSD能达到0.1%。同时系统配备HelEx II双体积双气路涡流样品池，提供快速冲洗效率和持续的剥蚀环境。
注：使用飞秒激光剥蚀系统用于化学分析受美国保护（号5656186及RE37585，由美国密歇根大学持有），隶属于CETAC品牌的Teledyne Photon Machines持有密歇根大学提供的许可，用于提供飞秒激光剥蚀系统。
技术参数
应用领域
基础分析，半导体材料分析，地质样品分析，同位素比值研究
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