概述:
钨涂层的CVD金刚石窗口钎焊到金属支撑框架已被验证是行之有效的透射、高功率X-射线阳极。
用高能电子束辐照钨层,即形成一个单点X-射线源,*适合小物体的高分辨检测。
概述:
钨涂层的CVD金刚石窗口钎焊到金属支撑框架已被验证是行之有效的透射、高功率X-射线阳极。
用高能电子束辐照钨层,即形成一个单点X-射线源,*适合小物体的高分辨检测。
在该应用中,金刚石起两个作用:一是作为高效散热片,快速地散逸掉焦点区域的热量;二是作为X-射线的透射窗口。
因此,被研究的物体可以放置在非常靠近X-射线点源的位置---X-射线检测的理想条件是高分辨和高放大倍率。
CVD金刚石X-射线透射靶规格参数:
材料 | CVD光学级金刚石 |
导热系数 | >1800 W/mK |
设计 | 金刚石X-射线透射靶钎焊到定制的金属支撑框架,与现存的X-射线管兼容 |
尺寸 | 2-20mm自由孔径(典型:4-10mm) |
厚度 | 100-300 µm |
表面 | 抛光,表面粗糙度: < 10 nm rms |
形状 | 圆形或椭圆 |
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