氮化硅支持膜

氮化硅支持膜氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生长了一层氮化硅膜，主要用于纳米技术和分子生物研究，它的优点是化学和机械性能稳定耐腐蚀，可以承受高达1000°C的温度变化。适合直接在氮化硅支持膜上对颗粒或细胞进行各种纳米技术实验。应用领域：FIB样品支撑，细胞生物学（附着的细胞可以直接在支持膜上的环境中生长，然后进行分析）、分析胶体，气溶胶，纳米颗粒、自组装单层、高分子研究、薄膜研究（直接沉积在氮化硅支持膜上）、材料科学、半导体器件的纳米结构的性质、半导体：薄膜表征、催化剂研发。 分类： 支持膜

描述

氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生长了一层氮化硅膜，主要用于纳米技术和分子生物研究，它的优点是化学和机械性能稳定耐腐蚀，可以承受高达1000°C的温度变化。适合直接在氮化硅支持膜上对颗粒或细胞进行各种纳米技术实验。应用领域：FIB样品支撑，细胞生物学（附着的细胞可以直接在支持膜上的环境中生长，然后进行分析）、分析胶体，气溶胶，纳米颗粒、自组装单层、高分子研究、薄膜研究（直接沉积在氮化硅支持膜上）、材料科学、半导体器件的纳米结构的性质、半导体：薄膜表征、催化剂研发。

膜厚度：弹性，超低应力8、15、35或50nm，可产生最小吸收，从而实现清晰的成像；坚固，低应力的100nm和200nm，可在多个平台上更好地处理和使用；窗口尺寸： 0.25 x 0.25mm，0.5 x 0.5mm，0.75 x 0.75mm，1.0 x 1.0mm，0.5 x 1.5mm以及具有3 x 3阵列的9个0.1 x 0.1mm窗口或2个0.1x 1.5毫米窗口的窗口版本。较大的窗口可提供更大的可视区域，例如，可以实现层析成像应用所需的更大的倾斜角度。具有多个窗口的版本允许将多个样本安装在单独的窗口上。表面粗糙度： RMS（Rq）为0.65 +/- 0.06nm，平均粗糙度（Ra）为0.45 +/- 0.02nm。货号21510-10到21579-10。