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LFM系列 1200系列真空气氛箱式炉系列用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断 偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料，具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点。
LFM系列 1200系列真空气氛箱式炉该设备为密封式是加热腔体，确保设备可在真空条件下，或者一些特殊气氛条件下使用，相比普通箱式炉，使用环境更灵活，使用范围更广泛。
设备特点：
（1）保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能。
（2）采用模糊PID控制，控温精度可达±1℃。
（3）炉体采用双层风冷机构，炉子烧到高温度时，壳体表面温度低于60℃。
（4）采用多种保温材料组合制成，使炉子体积小，能量消耗少（耗电量是同类产品耗电量的四分之一）。
LFM系列 1200系列真空气氛箱式炉技术参数：
设备型号 | LFM1200C1VC |
温度 | 1200℃ |
使用温度 | ≤1100℃ |
炉膛有效尺寸 | 100*100*100mm（W×H×D） |
炉膛材料 | 氧化铝、高铝纤维制品 |
热电偶类型 | K型热热偶 |
控温精度 | ±1℃， 30段可编程控温，PID参数自整定，触摸屏控制 |
加热元件 | 电阻丝 |
冷态极限真空 | ≤100-400Pa |
外观处理 | 白色 |
电源 | 单相，220±10%，50HZ |
最大加热功率 | 1.2Kw |
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