光电流成像系统

光电流成像系统Photocurrent Mapping System 又称为扫描光电流显微成像系统，用来检测材料光电流强度分布的设备，主要用来测量光电材料的光电响应信号和表征材料的光电特征。 说明：光电流成像系统Photocurrent Mapping system 利用了显微成像扫描技术，对样品表面做一个快速扫描。产生的光电流信号通过探针引到电流源表，再显示在软件界面，做成成像图显示样品表面电流分布。 光

光电流成像光谱系统

用于材料表面光电流分布特性的激光共聚焦光电流成像光谱系统，带低温探针台。

光电流成像系统Photocurrent Mapping system 利用了显微成像扫描技术，对样品表面做一个快速扫描。产生的光电流信号通过探针引到电流源表，再显示在软件界面，做成成像图显示样品表面电流分布。

光电流成像系统Photocurrent Mapping System 又称为扫描光电流显微成像系统，用来检测材料光电流强度分布的设备，主要用来测量光电材料的光电响应信号和表征材料的光电特征。

Photocurrent Mapping system 光电流成像系统将光电材料对于光信号响应的不均匀性以可视化和量化的方式显示出来。该系统可以研究光电探测器的量子效率，器件的电阻分布特征，研究太阳能电池光生电流的不均匀性，研究器件吸收和电荷生成的微区特性，以及光电材料界面，半导体结区的品质分布等。

产品特点：
超快扫描成像（大于1000谱/S）

超紧凑结构（光电流扫描成像和显微镜一体式设计）

成本低（客户仅需要在原来的探针台或者拉曼设备上做改造就可以，不需要额外购买平移台，这是振镜扫描的优势所在）

可视化和人性化软件（定制研发了电流源表输出和成像扫描视觉窗口，客户在一个界面实现光电流数据和成像mapping的对比比较方便）

可扩展增加其它波长的激光器，增加拉曼光谱，荧光光谱成像系统等

可增加高低温恒温器，锁相放大器，斩波器等

关键参数：
激光器（光源）   

l可配置1~3个激光器，窄线宽激光器用于拉曼光谱测试和光电流测试
l波长范围： 400~1550nm （典型的为 VIS: 405nm/532nm/633nm,   NIR :1550nm）

l可选配一个光纤接口用于接入外部激光器光源

l可选配超连续谱白光激光器（400nm~2400nm）

显微镜             

l奥林巴斯显微镜：BX61 （正置）（可根据客户要求选配）
l反射式/透射式LED照明

l物镜：标配（40X， NA=0.75） 选配：多种倍率和超长焦距物镜
l透过率：＞60% （360nm~1000nm）

扫描模块              

l扫描面积：200um×200um
l扫描精度：   小于10nm

l步进：＜50nm
l扫描速度：＞1000 谱/秒

电流                     

l测量范围：1pA – 1A
l准确度： 0.04%

l电流源表：Keithley 2400

探针台                 

l可根据客户要求定制

其它                    

l低温恒温器（2.2K）/高温热台（1500℃）
l根据客户要求定制探针台

l可选配斩波器，前置放大器，锁相放大器等提高系统灵敏度