基质辅助脉冲激光沉积系统

基质辅助脉冲激光沉积系统标准的激光束射向靶材入射角度：60°；主腔体本底真空：P < 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.

       基质辅助脉冲激光沉积系统系统技术指标：
 

　　大衬底尺寸
 

　　One 2-inch diameter substrate or multiple small samples. Larger substrates and custom substrate holders are available on request.
 

　　大衬底温度：300°C typical, but other heaters are available.
 

　　MAPLE靶材温度： -194°C (80 K)
 

　　压力操作范围：Base pressure depends strongly on polymer/solvent mix and the solvent vapor pressure
 

　　MAPLE靶材尺寸：Single 1.5” diameter target standard, larger targets available on request.
 

　　靶材到衬底(Throw) 距离：Variable from 2.5 to 4 inches
 

　　光栅路径长度：Across complete MAPLE target
 

　　基质辅助脉冲激光沉积系统标准的激光束射向靶材入射角度：60°
 

　　主腔体本底真空：P < 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.
 

　　真空腔体：Box style chamber with easy substrate / target changes.
 

　　激光波长：2.9 microns (Er:YAG laser), other lasers/wavelengths available on request.
 

　　科睿设备有限公司是一家专门从事材料生长、材料分析、纳米科技、半导体测试设备销售、服务及技术咨询的高科技公司。我司代理了多家*水平的分析仪器和设备，产品包括：
 

　　*光刻机(Mask Aligner)、匀胶机(Spin Coater)、深能级瞬态谱仪(DLTS)等；
 

　　*电子束蒸发系统(E-Beam Evaporation)、磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统(PLD)、原子层沉积系统、快速退火炉(RTP)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、反应离子蚀刻系统(RIE)；
 

　　*扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe)、飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)；
 

　　*气溶胶发生器、气溶胶粒径谱仪、气溶胶稀释器、滤料测试系统、烟雾发生器、空气示踪器等。
 

　　科睿设备有限公司扎扎实实的将代理的产品真诚的奉献给中国的科研工作者，我们以能为广大中国科研工作者提供优质服务为荣。而为客户提供整体的解决方案，是科睿技术发展有限公司一贯坚持的宗旨。
 

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