真空气氛管式炉

真空气氛管式炉采用双层壳体结构，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，控温精度高；双层炉南配有风冷系统，有效降低壳体表面温度，结合我司管式炉直销标准真空、混气系统，可抽真空、通气氛。仪器本身带有两个真密封法兰（法兰上已安装机械压力表和不锈钢截止阀）。

真空气氛管式炉以优质硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，控温精度高；双层炉南配有风冷系统，有效降低壳体表面温度，结合我司管式炉直销标准真空、混气系统，可抽真空、通气氛。仪器本身带有两个真密封法兰(法兰上已安装机械压力表和不锈钢截止阀)。广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质量检测等。

常用型号

注：以上所列出型号都有现货，特殊型号炉膛尺寸可根据客户要求定做，定做周期为7-30个工作日。