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CM *核酸纳米研磨分散机

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一、产品名称: *核酸纳米高速胶体磨、迪苏超高剪切胶体磨、斯奇康高速胶体磨、卡提素高速胶体磨、唯尔本胶体磨价格, 胶体磨厂家、多功能胶体磨、中试型胶体磨 二、 IKN 高速研磨分散机简介 IKN 研磨分散机是一款集研磨和分散一体化的设备,是一项新的技术革新。研磨分散机是将胶体磨(锥体磨...徐工:1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3

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一、产品名称:徐工:1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3

*核酸纳米高速胶体磨、迪苏超高剪切胶体磨、斯奇康高速胶体磨、卡提素高速胶体磨、唯尔本胶体磨价格, 胶体磨厂家、多功能胶体磨、中试型胶体磨


二、IKN高速研磨分散机简介


IKN研磨分散机是一款集研磨和分散一体化的设备,是一项新的技术革新。研磨分散机是将胶体磨(锥体磨)+高剪切分散机一体化的设备,先研磨后分散,物料研磨后又瞬间进行分散,避免了物料的二次团聚。IKN研磨分散机转速可达14000rpm,线速度44m/s,剪切速率强,也称“高速研磨分散机”



三、IKN高速研磨分散机介绍


1、CMSD2000研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在45DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到更低,保证机器连续24小时不停机运行。


2、CMSD2000研磨分散机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CMSD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMSD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。


四、IKN胶体磨与guo内其他胶体磨的比较


转速:guo胶体磨50HZ时转速一般为3000rpm

上海IKN设备在50HZ时设备转速高达7890/13789RPM ,可以通过变频调速,同时可通过皮带加速 依肯的轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍,研磨的力度也是国内胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小)。

设备结构:guo胶体磨设备的结构设计为三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区,沟槽是直线,同级的沟槽深度一样

上海IKN设备的设备结构为三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区,虽然都是三级结构,但是他们的设计不同理念不同,形状及齿列的结构,沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅,配置有金属碳化物或陶瓷涂层的锥型转子/定子,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蚀。

大线速度:guo胶体磨设备能达到的大线速度大约在10-15M/S

在相同直径磨头下,上海IKN设备线速度可达

V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

大作用力:guo胶体磨作用力大约在14293-215440 S-1

上海IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1

F=40/0.7/X1000=57142 S-1


而对CMO模块头,磨头的间歇G理论可以无限小,但是由于高速的运转,造成轴的振动,需要一定的间歇,作用力可以无限大,但实际上比胶体磨要好。这是粉碎研磨的重要因素,相当于guo内胶体磨的2-3倍。


五、当所处理的物料要达到非常细的程度时候,对于设备的要求就会非常的高。而从设备角度来考虑的话,能够达到超细的效果,要具备以下条件:

1、*的剪切力,CMSD2000系列研磨分散机转速高达14000rpm,线速度为44m/s,是普通设备的4-5倍。

2、高精密度的定转子,超细研磨分散机的定转子分为两级,一级为胶体磨磨头,采用三级错齿结构,磨头的沟槽的深度角度都符合流体力学的设计。第二级是分散头,IKN分散头有六种不同的规格,从粗到细,越来越密,分散效果佳。

3、机械密封,超细的效果取决于高的转速,而转速越高机械密封的发热量就会越大,设备的机械密封是否能够耐的住这么高的转速,国内大多数厂家的机械密封是无法做到的,而IKN研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封,并配有机封冷却系统,可以承受超高的转速,稳定性高。



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