M系列光束笔尖阵列光刻系统

聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列，采用蘸笔光刻DPN的方式，将待沉积的材料（墨水）浸蘸在笔尖阵列上，笔尖可控的与基底表面接触，从而在基底表面批量成型所需图案，加工纳米微米图案无需光掩膜，且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率。

主要特点

- 高分辨率，可达低于100nm的分辨率；

- 高通量模式，可达160000针尖输出制作结构；

- TERA-FAB M系列可制作厘米级材料尺寸；

- 无需掩模，即时性改变输出机构，可广泛适应软质和硬质材料；

- 软硬件友好，非专业人士可在几小时培训后，熟练使用。

A）一张4英寸的PPL阵列，有1100万支笔尖。

B）阵列内纳米尺度弹性材料*的扫描电子显微照片及内嵌图像；

C）由PPL技术打印的多种蛋白示意图。各针尖阵列蘸上不同的打印墨水（蛋白）；

D）荧光光学显微图的结果，PPL合成了多路荧光标记蛋白的图案。

可应用于纳米粒子合成，蛋白阵列，单细胞排布，纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域。