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PR05 白光干涉仪(三维形貌)

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PR05/06白光干涉三维形貌仪是采用日本*的的白光干涉扫描技术研制的纳米量级形貌测量仪器,透过精密的扫描系统和自主的解析算法,进行样品表面微细形貌的量测与分析。表面显微成像能力与高精度测量的*结合,只需数秒钟,就能观测到三维表面、台阶高度、表面纹理、微观尺寸以及各类参数的测量结果。

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产品原理

照明光束经半反半透分光镜分成两束光,分别投射到样品表面和参考镜表面。从两个表面反射的两束光再次通过分光镜后合成一束光,并由成像系统在CCD相机感光面形成两个叠加的像。由于两束光相互干涉,在CCD相机感光面会观察到明暗相间的干涉条纹。干涉条纹的亮度取决于两束光的光程差,根据干涉条纹明暗度解析出被测样品的相对高度。
产品特点
1.       非接触、高稳定性、高速度测量 
2.       高精度测量、结果可作为计量标准:垂直解析度可达0.1nm、水平解析度可达0.1um
3.       大面积测量 自动缝合技术实现大面积高精度测量
4.       功能强大、使用便捷的测量分析软:PRVision应用软件可提供多项测量参数
5.       适用范围广泛 可以测量多种类型样品的表面微细结构
6.       真正意义的免维护及优良的性能价格比
软件功能
1.       硬件控制、二维载物平台自动控制、光学系统自动聚焦、干涉信号处理
2.       测量结果显示及各种方式处理:二维平面和三维立体显示、任意放大或缩小显示图像、调平和多角度自由旋转
3.       粗糙度测量及结果显示:包括评价区域位置信息和多种粗糙度评价参数
4.       线宽测量及结果显示:采用亚像素插值处理技术,线宽测量精度zui高可达0.1um、表格形式显示各种线宽结果、根据事先确定的评判基准,实现线宽自动评判功能
5.       多幅相邻区域测量结果自动缝合
应用领域
在众多高科技研发及产业中,诸如半导体、微机电、平面显示器与电子封装等,由于微结构表面轮廓的准确性决定产品的功能和效能,在其制成过程中皆需针对微结构的表面轮廓品质进行检测,PR系列产品提供多种表面参数量测功能如断差高度、线宽、面积、体积、粗糙度、薄膜厚度及平整度以满足业界及研究部门之需求。无论是抛光表面还是粗糙表面,只要反光率超过1%,就能被*检测出来。半导体硅片及器、MEMS装置表面、平面液晶显示器、薄膜厚度、金属摩擦学、陶瓷基板表面、光学器件表面、其他材料分析及微表面研究。


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