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简介:LaserMBELaserMBE特点模块化概念,LaserMBE可以轻松升级到传输模块或其他模块UHVPLD主腔室、利用Load-lock实现衬底和靶材的UHV传输的工艺自动化功能,可实现超晶格生...
深圳市科时达电子科技有限公司 产地:深圳市我要询价 -
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简介:用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD;具备近100种膜层工艺。应用领域:芯片封装、半导体High-k介电...
深圳市科时达电子科技有限公司 产地:深圳市我要询价 -
¥6240000
简介:上海伯东代理美国进口KRI考夫曼离子源KDC100中型规格栅极离子源,广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中,考夫曼离子源KDC100采用双阴极灯丝和自对准栅极,标准配置下离子能量范围100至1200...
伯东企业(上海)有限公司 会员等级: 产地:上海市我要询价 -
¥8400000
简介:上海伯东代理美国进口KRI考夫曼离子源KDC160是目前考夫曼KDC系列zui大,离子能量zui强的栅极离子源,适用于已知的所有离子源应用,离子源KDC160高输出设计,zui大电流超过1000m...
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¥3000000
简介:上海伯东代理美国进口KRI霍尔离子源eH200是霍尔离子源型eH系列中尺寸最小,低成本设计离子源.霍尔离子源eH200适用于小型真空腔内,例如研发分析,薄膜沉积和离子清洗.霍尔离子源eH200操作...
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¥3600000
简介:上海伯东代理美国进口KRI线性离子源使用eH400做为模组,能应用于宽范围的衬底,离子源长度高达1米,通过严格调整模组间的距离可以实现更佳的均匀性和离子流.由于模组是平行放置,大大简化了气体,功率...
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¥7200000
简介:上海伯东代理美国进口KRI射频离子源RFICP40:目前KRI射频离子源RFICP系列尺寸最小,低成本高效离子源.适用于集成在小型的真空腔体内.离子源RFICP40设计采用创新的栅极技术用于研发和...
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¥6000000
简介:上海伯东代理美国进口KRI霍尔离子源eH3000适合大型真空系统,与友厂大功率离子源对比,eH3000是目前市场上高效,提供更高离子束流的离子源.
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¥4200000
简介:上海伯东代理美国进口KRI霍尔离子源eH1000,低成本设计提供高离子电流,特别适合中型真空系统.通常应用于离子辅助镀膜,预清洗和低能量离子蚀刻.
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¥11400000
简介:上海伯东代理美国进口KRI考夫曼型离子源RFICP100紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出400mA离子流.考夫曼型离子源RFICP100源直径19cm安装在10”CF法兰...
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