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首页 >> 技术文章 >> 采用静态顶空研究不同基体中的溶剂残留
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美国药典 (USP) <467> 广泛应用于鉴别和定量医药产品中的 有机挥发性杂质(OVI),所有这些有机挥发性杂质均为溶剂残留,由于这些残留对人体和环境均有伤害,故这些残留必须严格监控,该研究报告为采用USP <467>方法,使用静态顶空和GC/FID检测不同基体中的挥发性有机物。
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