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CH-50 测厚仪

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随着电子和纳米科学时代的兴起,电子元件的小型化已成为其几乎呈指数级性能的重要因素。将技术层和涂层减薄到纳米级,可以在各种领域取得进步。复杂的制造流程推动控制变得越来越准确。

光声无损膜厚仪为这些演变相关的许多问题提供了解决方案。缺陷检测现在在许多行业中非常必要,以避免在生产过程中遇到问题并提高质量水平。

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光声无损膜厚仪

随着电子和纳米科学时代的兴起,电子元件的小型化已成为其几乎呈指数级性能的重要因素。将技术层和涂层减薄到纳米级,可以在各种领域取得进步。复杂的制造流程推动控制变得越来越准确。

光声无损膜厚仪为这些演变相关的许多问题提供了解决方案。缺陷检测现在在许多行业中非常必要,以避免在生产过程中遇到问题并提高质量水平。

我们使用的光声技术设计了光声无损测量系统。 技术源自法国CNRS 和波尔多大学的技术转让,它依靠激光、材料和声波之间的相互作用深入物质的核心。

我们的非破坏性和非接触式技术将光转换为声频超过100GHz 的声波。 目的在于表征涂层,例如不同类型材料的厚度和附着力。特别适用于测量从几纳米到几微米的薄层,无论是不透明的(金属、金属氧化物和陶瓷),还是半透明和透明的。 这种光学技术不受样品形状的影响。

 

产品特点

  • 非破坏性和非接触式技术
  • 薄膜的表征:厚度、附着力、热性能
  • 快速且可重复的测量
  • 超精密测量
  • 许多材料可用
  • 能检测的膜厚度从 2纳米~20微米
  • 扫描方式:单点、XY扫描、表面声波
  • 测样样品种类: 不透明、半透明、透明均可测试。
  • 平坦和弯曲的样品均可

 

 

系统构成:

仪器使用两个同步的超快激光器。会产生大约100飞秒的不同波长的激光脉冲。使用这些脉冲进行非破坏性和非接触式测量。这些都集中在所研究的样品表面。

 

能使用的材料

广泛的材料及其在许多应用中的使用使这一材料方面变得非常必要。自产品问世以来,我们的技术已证明其有能力测量许多金属材料。也适用于陶瓷和金属氧化物,并且不受外形因素的影响。

 

无损检测 (NDT) 具体应用案例半导体行业

半导体行业为我们周围遇到的大多数电子设备提供了基本组件。它的制造需要在硅晶片上进行多次薄膜沉积。

 

问题?

在任何工艺过程中,不透明薄膜的沉积,无论是单层还是多层,都需要质量控制。无论是检测还是计量,厚度测量和界面表征都是确保其质量的关键问题。

 

我们的解决方案?
- 高速控制。
- 非破坏性和非接触式测量。
- 单层和多层厚度测量。

 

 

显示器行业

今天,不同的技术竞争主导显示器的生产,而显示器在我们的日常使用中无处不在。事实上,由于未来 UHD-8K 标准以及新兴柔性显示器的制造工艺,这个不断扩大的行业存在技术限制。

问题?

一个像素仍然是一堆薄层有机墨水、银、ITO……在这方面,控制薄层厚度的问题仍然存在。这些问题可能会导致最终产品出现质量缺陷。

 

我们的解决方案?
- 对此类层的*检查。
- 提取厚度的可能性。
- 非破坏性和非接触式厚度测量。

 

薄层沉积

无论是在航空工业还是科研制造领域,技术涂层都可用于增强高附加值部件中的某些功能。这些涂层的厚度随后成为确保目标性能的关键因素。

问题?

无论是法律限制还是技术限制,破坏性测试的采样方法通常提供不完整的答案。此外,由于形状因素、曲率等原因,很难控制3D作品。

 

我们的解决方案?
- 非破坏性和非接触式测试
- 快速测试厚度数据
- 现在可以进行在线生产控制

 

 

 


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