纳米有机盐树脂研磨分散机,纳米盐树脂研磨分散机,纳米树脂研磨分散机,树脂研磨分散机,树脂分散设备厂家,德国进口高速研磨分散机,管线式高速研磨分散机,IKN立式研磨分散机,在线式高速研磨分散机
IKN研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封,在保证冷却水的前提下,可24小时连续运行。而普通研磨分散机很难做到连续长时间的运行,并且普通研磨分散机不能承受高转速的运行纳米有机盐树脂研磨分散机,纳米盐树脂研磨分散机,纳米树脂研磨分散机,树脂研磨分散机,树脂分散设备厂家,德国进口高速研磨分散机,管线式高速研磨分散机,IKN立式研磨分散机,在线式高速研磨分散机
上海依肯致力于物料研磨分散的问题的研发和解决,在树脂行业得到广泛的认可和赞许。上海依肯研磨分散设备为市场上新型的研磨分散机,先研磨后分散,解决了设备串联时间差的问题,从而避免了物料细化后的团聚现象。
纳米级无机盐分散于液相体系一直都是化工行业的一个重大难题,特别是当液相的粘度比较大,很难搅拌的情况下;无机盐类的颗粒细度达到纳米级,在分散的过程中经常会出现两方面的问题:一是分散不均匀,例如颜料分散时经常会产生色差、色线、浮色等;二是超细颗粒抱团,原始颗粒较细,分散后的粒径却增加了数倍,甚至数十倍。很多行业采用国产砂磨机进行长时间的研磨,期望能达到效果,往往事与愿违,且浪费了大量的时间、人力、物力成本。进口砂磨机虽然效果会更好一点,但研磨时间会非常长,而且进口砂磨机价格昂贵,需要100多万,还需要专业的操作人员。经过数年研发,德国IKN和上海依肯合作生产的研磨研磨分散机CMD2000系列很好的解决了这个难题。纳米有机盐树脂研磨分散机,纳米盐树脂研磨分散机,纳米树脂研磨分散机,树脂研磨分散机,树脂分散设备厂家,德国进口高速研磨分散机,管线式高速研磨分散机,IKN立式研磨分散机,在线式高速研磨分散机
IKN研磨分散机由胶体磨和分散机两部分组成,兼具研磨和分散功能,但并不是将两种功能简单的叠加,不仅仅是1+1=2这样简单;研磨分散机必须经过合理和精密设计,特别是其中间隙、流量、尺寸和密封的处理,都经过严格的计算和精心组合;实际的效果变成了1+1>2,研磨细度超过单一的胶体磨,分散效果又强于单一的分散机。
1. 具有强大的混合均质、分散乳化能力和越强的粉碎研磨、破碎输送功能
2. 所以零件都采用锻造精加工而成,*铸件
3. 电机采用普通型、防爆型等优质电机、确保*使用无质量问题
4. 本设备*设计,无振动,无噪音,动平衡效果好,安装方便
5. 转定子可进行渗氮处理或渗碳化钨处理,增强表面的硬 度,达到耐腐耐磨
6. 有强大的输送能力,扬程可达20米,连续作业和间隙作 业不影响设备寿命
7. 间隙可以调节,调节距离为0.01~2mmzui小细化度可达 0.5µm
8. 采用机械水冷耐高温双面合金密封,只要有密封冷却液溢出空转没问题
纳米级树脂研磨分散机,树脂研磨研磨分散机,高剪切研磨研磨分散机CMD2000系列是由胶体磨和研磨分散机组合而成的高科技产品,它的一级是胶体磨的三级研磨头,由粗至细至超细,可将较粗颗粒研磨至超细;二级连接一个超细齿的分散头,转速9000rpm,可将纳米级颗粒瞬间进行分散,防止颗粒抱团。
研磨式研磨分散机是由锥体磨,研磨分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。
新型的设备结构,研磨和分散一体化设备,浓缩了上海IKN全体员工的汗水和智慧,为纳米级物料的分散开辟一片天地!
粉碎室设有三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三层为超微磨碎区,通过调整定、转子的间隙,能有效地达到所需的超微粉碎效果(也可循环加工)。
混合区:首先将物料通过混合搅拌装置进行高速混合,在混合过程中用螺旋混合浆叶使物料在高速运转中的到充分混合均质后送料给下道工艺;
剪切区:物料进入剪切区后,由于上道工序只把物料进行混合,没有把物料进行大颗粒破碎,这个问题由高剪切机来完成,该剪切区由三层数百条刀槽组成,将大的粘团结块等易碎颗粒进行剪切破碎。
研磨区:研磨区是由凹凸胶体磨组成,转定子切有许多中齿及细齿组成,将已剪切的小颗粒进行深化研磨,研磨时可调距离为0.01~3mm;
1、有较强的混合、粉碎、研磨、输送功能;
2、可使用较硬的各类易碎颗粒;
3、 可同过调节定转子间隙进而调节循环研磨所需时间;
4、 定、转子间歇可以调节,调节距离为0.01~3mm,可降低启动负荷,从而减少能耗
5、 转、定子材料可选用2cr13 9cr18 2205进行氮化处理货渗碳化钨处理。
CMD2000系列研磨研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
,纳米盐树脂研磨分散机,纳米树脂研磨分散机,树脂研磨分散机,树脂分散设备厂家,德国进口高速研磨分散机,管线式高速研磨分散机,IKN立式研磨分散机,在线式高速研磨分散机
*您想获取产品的资料:
个人信息: